报告时间：2023年4月3日（星期一）14:30-16:30
报告地点：昇华楼616会议室
报 告 人：鞠焕新 博士
工作单位：高德英特(北京)科技有限公司
举办单位：化学与化工学院、先进催化与反应工程安徽省重点实验室、可控化学与材料化工安徽省重点实验室、先进功能材料与器件安徽省重点实验室
报告简介：
表面分析技术已经广泛应用于新材料和器件的基础科学研究以及高科技产业中，对深入理解其中的基本物理化学性质、表界面特性和电子结构等关键科学问题提供了强有力的工具。面对新材料/器件中的基础研究和技术创新，先进表征分析技术的发展和应用具有重要的意义。
本报告将针对科学研究中对表面分析技术的需求，从空间分辨、深度分辨和原位表征多个维度出发，介绍多种表面分析技术（XPS、UPS、LEIPS、AES和TOF-SIMS等）最新发展以及在材料组分、化学态、能级电子结构（价带和导带）以及分子结构信息等研究中的应用，尝试为解决关键科学问题开拓思维和发掘突破点
报告人简介：
鞠焕鑫，博士，PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司应用科学家。分别于2009年和2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位，毕业后在国家同步辐射实验室从事博士后研究。2016年6月-2018年10月，中国科学技术大学国家同步辐射实验室特任副研究员。2018年11月，加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司，担任应用与市场总监。长期从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究，在学术研究方面与用户合作在Science, Nature，Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文百余篇；主持/参与多个国家级科研项目。